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鎳靶塊

  添加時間2018-11-23 16:57:36 瀏覽次數6628
 
鎳靶塊
 
簡要介紹:
 
鎳靶材、鎳圓靶、高純鎳靶
 
1、名稱:鎳靶材、鎳圓靶
 
2、牌號:N4,N6,UNSN02200
 
3、技術條件:符合GB/T4435-84,ASTM B160-93
 
4、用途:用于電子信息,半導體、平面顯示器、濺射鍍膜,化工等。
                                                                                                                 
 
純度
  
純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶
 
材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6, 8發展到12, 而布線寬
 
度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC
 
的工藝要求,而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
   雜質含量
  
 靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質含
 
量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特
 
殊要求。
   密度
  
為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅
 
影響濺射速率,還影響著薄膜的電學和光學性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材
 
的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。
 
  晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
  
通常靶材為多晶結構,晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比
 
晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均
 
勻。
 
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